中國加速曝光機突破 上海微電子專利揭關鍵技術
- 黃瓊文／台北
在美國對中國高階半導體設備的出口限制不斷緊收之際，中國正悄然加快曝光機技術自主化。據悉，中國曝光機新興設備廠宇量昇已將其自行開發的28奈米浸潤式DUV曝光機送入中芯國際進行入廠測試（in-fab testing）。這款機台採浸潤式光學架構...
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