科技1分鐘：G2蝕刻氣體
- 張庭瑜
G2是由三星電子（Samsung Electronics）與日本大金工業（Daikin Industries）共同開發的新型半導體蝕刻製程用替代氣體，主要應用於先進邏輯與記憶體製程的蝕刻步驟。其開發目的在於，取代既有具高溫室效應潛勢的蝕刻氣體—全氟碳化物（...
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