汎銓發表最新SEM EDS分析 智慧應用 影音
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汎銓發表最新SEM EDS分析

  • 鄭斐文台北

a) Cu,b) O,c) Si,d) N與e) Ta。f)為所有元素疊加在一起呈現的結果。g) SEM放大照片。
a) Cu,b) O,c) Si,d) N與e) Ta。f)為所有元素疊加在一起呈現的結果。g) SEM放大照片。

汎銓最新引進的SEM EDS化學成分分析可以清楚地呈現厚度只有約10 nm的金屬層。SEM EDS針對Samsung Galaxy S8 CPU在6T-SRAM區域進行分析,偵測到5種元素,分別是Cu、O、Si、N與Ta。所有元素疊加在一起呈現的結果。能夠清楚呈現Cu線邊緣的Ta層厚度大約是9.2 nm到11.9 nm。未來在分析上能更加準確。