志聖展出LED高亮度及高散熱雙解決方案 可讓LED亮度增加30%壽命延長4倍 智慧應用 影音
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志聖展出LED高亮度及高散熱雙解決方案 可讓LED亮度增加30%壽命延長4倍

志聖工業針對LED產業製程設備,於2011年6月14~16日在台北世貿南港展覽館4F攤位M1235展出領先業界的「高亮度」與「高散熱」雙解決方案設備,為LED產業帶來新的亮點。其中高亮度的「圖案化藍寶石基板製程」方案設備,可讓LED再增加30%的亮度;而高散熱的解決方案設備將可解決光衰效應,讓LED的壽命再延長4倍。此外,6月15日16:20於南港展覽館403會議室,志聖將舉行一場「提高LED亮度及散熱技術」發表會。

由於LED被大量使用於照明與液晶背光源上,造成驚人的市場成長需求。志聖為因應業界需求,提供兼具高亮度與高散熱的雙解決方案設備。其「圖案化藍寶石基板製程」包括以藍寶石基板作光阻與曝光顯影及蝕刻…等,並以主流的2吋及4吋製程設備為主,採用先進的乾蝕刻製程設備(氣態電漿反應),不會產生液態製程伴隨的汙染狀況,蝕刻精度與世界大廠同級,達到1,500 A/min,可以讓LED增亮30%,現有客戶包括晶電、璨圓、泰谷、新世紀…等。

志聖高亮度與高散熱雙解決方案。

志聖高亮度與高散熱雙解決方案。

針對高散熱解決方案,志聖研發團隊開發出利用Si基材高導熱特性及方便於導入WLP(Wafer Level Package)製程,以利於降低成本之Si interposer TSV整合方案;其中運用志聖獨家開發之晶圓壓膜機及DRIE TSV乾蝕刻機經製程整合開發出高良率之簡易TSV製程,將晶粒黏著於Si Submount,可以使薄化的藍寶石基板LED晶粒緊密地與Si Submount接合在一起,以發揮最大的熱傳導效能,降低GaN晶粒的接合溫度(Junction Temperature),一般而言只要下降10℃就可以提高50%的使用壽命。

志聖提供此製程的Si interposer TSV整合方案,包括晶圓壓膜機、曝光機、DRIE Plasma電漿蝕刻機製程設備,讓產品可以進入更高階的運用與產品區隔。志聖的雙解決方案設備最大優勢在於同時提供一次到位的製程設備與技術,包括「圖案化蝕刻」與「提高亮度」的製程設備,還可依客戶需求調整客製化最佳操作製程,協助客戶立即提升技術能力,進入高階產品市場。

志聖工業新竹分公司專注於SEMI、PV、LED…等產業設備,產品包括電漿設備、高精度烤箱、AMHS…等,針對plasma的產品,志聖銷售客戶包括晶遠、光磊、奇力、敦南、矽品、光寶、晶電、太陽谷、江西瑞晶…等數十家知名業者。


議題精選-光電週2011