愛德萬光罩缺陷檢驗掃描式電子顯微鏡E5610
- 張琳一/台北
全球測試領導大廠愛德萬測試(Advantest)日前宣布已開發出全新光罩缺陷檢驗掃描式電子顯微鏡系統E5610,不僅可檢測光罩基材中超細微缺陷,還能加以分類。
E5610承襲Advantest一貫的高穩定性、全自動影像擷取技術,以其備受肯定的多視角量測掃描式電子顯微鏡檢測光罩缺陷,並提供全新開發的光束傾斜功能,以傾斜角度進行掃描。E5610的缺陷檢驗功能精確性高且產能效率高,將能提升下一代光罩產品品質,縮短製造週期時程。Advantest將於2012年12月5~7日在日本千葉縣幕張國際展覽中心舉辦的SEMICON Japan國際半導體展上展出E5610。
光罩製程不容許出現任何重大缺陷,因為這不僅會降低良率,也將連帶影響製程週期時間。Advantest全新E5610是光罩製造廠不可或缺的解決方案,其快速精準的技術可將缺陷逐一分類,並依缺陷類別判斷適當修復方式,在既定製程週期時間內達成良率目標。
Advantest享有專利的逐行架構技術,即使在以低加速電壓進行光罩掃描之下,也能讓空間解析度達到2nm水準。此外,E5610還提供獨有電子控制傾斜模組,可使光束上揚15度,讓執行3D缺陷檢驗變得更容易。
E5610由於具備高精確性定位平台、電荷控制功能、降低污染技術,因此即使在掃描式電子顯微鏡高度放大的情況下,仍能展現高產能效率,穩定進行全自動缺陷造影。E5610與各主流光罩檢驗系統均相容,它可匯入缺陷位置資料,並自動對位置造影;同時支援業界標準KLARF(KLA結果檔案)格式。E5610提供了EDS(X光能譜散佈分析儀)選購模組,此模組可用於分析基本成本,這是一種對應光罩基材缺陷的先進技術。
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