永光化學LED正負型光阻劑　已成兩岸客戶首選

永光化學光阻劑EPI 612應用於PSS製程示意圖。

永光化學於1995年投入電子化學品技術研發，是唯一國產IC光阻劑供應商，歷經16年不間斷的創新研發建立自主技術，已在半導體黃光微影製程化學品供應鏈上扮演相當重要的角色。永光在2011年半導體展期間，在世貿一館884攤位展出半導體以及LED領域相關應用產品。

永光總經理陳偉望表示，回顧2010年，永光化學除了持續開發IC製程關鍵化學品，也成為LED產業製程關鍵化學品的主要提供者。

近1年來，智慧型手機(Smartphone)與平板電腦市場的大幅成長，也刺激帶動晶圓代工及相關產品需求，根據工研院產經中心之產業年鑑顯示，2011年全球IC產值預估達3,137億美元，較2010年成長4.5%；台灣在晶片市場、驅動IC及晶圓代工方面，總產值預估較2010年成長8.7%。

陳偉望指出，為因應半導體先進黃光微影製程需求，永光化學推出幾款相對應產品：EPG 535光阻劑，是1款G-Line (4吋、6吋廠)、I-Line(8吋廠)通用的光阻劑，其具有耐熱性佳、附著性佳、高感光性(較低的曝光能量)、較大的製程寬容度，在製程上比較容易加工以及高解析度等特性，其解析度可達0.48μm。

另外，EPG 590光阻為正型厚膜光阻劑，主要供貨給太陽能矽晶圓廠以及被動元件廠商，其具有高穿透性、附著性佳等特性，可應用於10~50μm光阻膜厚的金與銅之電鍍製程，以進行金凸塊或銅線路的製作。在不同的蝕刻製程下，光阻圖形皆能展現不脆裂與高解析的優點。

EPI 680光阻是一高感光性的I-Line的光阻劑，應用在保護層(Passivation Layer)，具有較大的製程寬容度，其解析度可達2μm，目前已推廣到數家晶圓代工廠。

陳偉望表示，有鑑於LED在顯示器背光源以及照明市場龐大商機，永光比同業更早切入LED光阻產品的研發與供應，加上擁有半導體優異技術設備，LED正負型光阻產品在兩岸市場已成為客戶首選。

永光化學目前已經具備LED完整的上中下游完整的供應能力。不僅從上游基板的拋光研磨液，到中游光阻劑、顯影液等製程化學品供應，及下游封裝製程也積極推出關鍵封裝材料。

近年來LED照明朝高亮度發展，永光電子化學推出EPI 612光阻劑，應用在藍寶石晶圓表面圖案化PSS(Pattern Sapphire Substrate)，其解析度可達0.64μm。將藍寶石基板的表面蝕刻圖案化之後，可有效提升LED的發光效率，降低LED發光成本。

因應2011年IT市場的需求量放大，帶動LCD面板驅動IC的成長，而驅動IC的封裝主要是使用在LCD COF(Chip on Film)的製程技術，面對愈來愈薄型化、軟板線路愈來愈細情況，永光化學推出FSR 110光阻(正型光阻劑)，符合業界通用型1% Na₂CO₃或0.1% KOH顯影系統，其解析度可達5μm的高解析度、高感光性(較低的曝光能量)、較大的製程寬容度等特性。另具有可撓性與良好附著力，因此可以塗佈在軟性基材上，是一款適用在高階手機、高階面板驅動IC用的高階產品。永光已經提出該項產品專利申請，目前產品已進入客戶量產驗證階段。