應用封裝技術提升載板使用面積效益 智慧應用 影音
Event
DFORUM

應用封裝技術提升載板使用面積效益

採Flip Chip形式製作晶片,是快速增加元件密度,讓產品擴增更多功能的製程手法之一。NVIDIA
採Flip Chip形式製作晶片,是快速增加元件密度,讓產品擴增更多功能的製程手法之一。NVIDIA

在電子製造業,為了面對產品越來越小、效能不斷提升的應用需求,原有傳統利用引線的封裝方法,已漸漸改採核心結構更趨複雜的陣列組態基板封裝技術,但這種方式也會面臨架構先天性的高密度、熱處理應用挑戰...

隨著電子裝置的設備體積日趨縮小,產品製造商加諸的各項應用功能卻不減反增,甚至還要達到效能倍增、電池續航能力更為長效的設計目標,雖然面對產品微縮化、功能多樣化的設計方向,可以透過積體電路的高度整合,來達到預期的設計效益,但即便是朝著整合晶片的方向去實現產品設計,但仍有整合的限制問題,必須尋求更具整合效益的技術來因應。

因應更高密度的晶粒製程,載板設計也成為配合的關鍵。Intel

因應更高密度的晶粒製程,載板設計也成為配合的關鍵。Intel

Atom已採行高度整合與高密度晶片製程。(Intel)

Atom已採行高度整合與高密度晶片製程。(Intel)

在眾多技術中,結構更複雜的陣列組態基板封裝技術,是一種可以有效提升半導體電路密度的方法,讓傳統封裝方式可以找到另一個大幅改善體積、效能的應用方向,但陣列組態基板設計方式,即便能提升現有應用元件的整體效能,但在先天設計限制下,也須正視散熱、晶片密度增加的設計挑戰。

基本上,以電子設計的角度來檢視,積體電路的設計密度持續增加卻引發更多設計難題,例如,利用更高密度的晶體設計,電路密度增加,相對也代表電晶體數量同步增加,封裝完成的晶片元件肯定面臨散熱、機械強度、電子信號品質...等多項開發需求,構成產品品質的種種挑戰。

甚至於,目前多數封裝依舊採引線封裝結構,而為滿足高度複雜、高效能應用設計方案,半導體的元件設計已開始大量應用陣列組態基板處理封裝工作,而其均勻陣列式的設計結構,讓基板中介層的設計可善用均勻接點結構來處理基板封裝。

採行均勻陣列式接點結構,可以讓基板之中介層帶出最後封裝外觀縮到最小的優點,而基板、中介層則用以處理接地、電源的電子互連介面。陣列組態基板封裝技術,在接點間距、間隔距離因應微縮設計被大幅縮減時,接點密度就可能超越了引線式的封裝設計,加上進行傳輸用的電子通道長度也能因此大幅縮短,也就是說,當積體電路的傳輸通道越短、電感值就會出現降低現象,加上接點位處晶粒元件之正下方,還可以基本與連接(Host)電路結構間達到功能連結、同時兼具更優異的散熱效果。

基於傳輸路徑大幅縮減、散熱處理效果更好等優點,令陣列封裝受到裝置開發者所青睞,因為,新穎的陣列組態基板封裝技術會比傳統引線式封裝設計結構更能因應不同需求的元件設計,尤其是目前熱門的微處理器、微控制器、記憶體、特殊應用IC...等應用產品。

至於針對半導體封裝應用的基板,在面對高電路密度的應用環境,特別是針對電子產品的效能提升問題與產品本身的熱處理效能問題,都會有不同的要求程度,因為當電路密度增加,晶片封裝後的單位發熱量勢必會呈現倍數上升,而晶片呈現點狀的高熱並不容易處理,若又加上採堆疊功能載板,或者為提升效能所進行的外部時脈提升,整體元件的發熱狀態只會更凸顯熱處理問題的嚴重性,如何善用材質或載板特性改善核心的熱傳導效率,成為高性能元件產品的設計關鍵。

高性能元件的製作方式,較多採取擴充輸出/輸入(I/O)的埠數,去倍增單一時間的傳輸資料量,或者採堆疊式基板搭配陣列封裝設計,去達到I/O倍數擴增的效用。然而,即便是效能因此增加了,但單位的電晶體數量也隨著大幅提升,考驗著基板材質設計。

目前的基板材質,為了達到較低的介電係數、更高的絕緣特性,多數產品轉用玻璃材質進行加工製作,而業界也嘗試採取更多元的基板材料,來滿足不同的應用要求。例如,針對高頻應用的需求,就有採取強化纖維複合玻璃材質,其實這種材質為環氧樹脂搭配玻璃原料製作,甚至搭配內含陶瓷粉體的填充材,製作出適合高溫運行的基板材料。

然而,採用多層基板的設計方案,在面對單一晶片追求更多附加功能的產品開發設計形式,因為內嵌的電晶體數量不斷增加,導致晶片內部需要更多的接腳與銲墊,預置這些設計才可以使I/O訊號傳遞能在晶片內進行傳輸,即便有部分半導體封裝基板採用僅2~4層的增層式電路板,但多數整合產品所用的基板電路層數仍持續增加。目前的基板發展趨勢,是持續朝增加線路密度方向前進,例如45奈米元件應用即可採行至少14層的基板設計。

針對新世代應用的高度整合元件產品,也嘗試捨棄傳統引線搭接的封裝形式,改採具備高密度封裝優勢的覆晶(Flip Chip)製作形式,來接合系統晶片內的功能晶粒,但覆晶可能是一個可行方案,卻也存在不少製作的現實問題,例如,會影響到覆晶晶粒密度的問題就相當多,像是焊錫凸塊的勻稱度、基板的平坦度都是關鍵因素;此外,超高密度的覆晶應用會受到電遷移效應影響,尤其是長期使用之後,會讓微細間距的接點之間形成具微弱導電效果的橋接物質,這將造成晶片功能線路短路或其他電氣性的故障損壞,必須多加重視。


關鍵字