日本Patentix攻克二氧化鍺6吋晶圓鍍膜 2027年投入試製 智慧應用 影音
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日本Patentix攻克二氧化鍺6吋晶圓鍍膜 2027年投入試製

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    江仁傑綜合報導

源於日本京都立命館大學(Ritsumeikan University)的新創Patentix,宣布成功開發出相容6吋晶圓的全新鍍膜系統(Deposition System)。利用該系統,Patentix成功將下一代功率半導體材料金紅石型(Rutile)二氧化鍺(r-G...

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