DAS Environmental Experts推出ALCEA適用於半導體廠的整合脫硝裝置

ALCEA安裝示意圖。DAS Environmental Expert GmbH

DAS Environmental Expert GmbH（以下簡稱DAS）於2026年9月2日宣布推出全新氮氧化物（NOx）二次減排系統ALCEA，專為半導體製造廠廢氣處理而設計。ALCEA安裝於產生NOx的廢氣處理設備排氣端，可實現最高達95%的NOx去除效率，其觸媒催化反應模組直接整合至排氣管道中，有效減少Sub-Fab額外佔地需求。再者，DAS將於SEMICON Taiwan 2026期間（2026年9月2日至4日）於台北南港展覽館一館J2346攤位正式展示ALCEA。

在半導體晶圓廠中，新增污染防治設備往往必須與有限且昂貴的Sub-Fab空間競爭，同時製造業者也持續追求降低公用設施消耗、減少維護需求以及避免生產中斷。ALCEA透過高度整合的系統架構有效因應挑戰，其觸媒催化模組直接安裝於排氣管路內，而非採用獨立落地式處理設備。此方案可靈活導入既有排氣系統，並適用於各類會產生NOx的廢氣處理技術之後段處理。

DAS首席業務發展長Dr. Guy Davies表示：「晶圓廠無法將排放治理、能源效率與空間利用視為彼此獨立的議題。透過ALCEA，我們將高效能的DeNOx技術部署於最具價值的位置，也就是現有排氣製程之中。其成果是一套可快速導入既有設施的解決方案，在維持低佔地與低公用資源需求的同時，可達成最高95%的NOx去除率。這正是邁向零排放Sub-Fab所需的實用創新技術。」

無需特殊藥劑注入的電漿增強觸媒催化技術

ALCEA採用DAS已獲市場驗證的Plasma-Enhanced Catalytic技術。透過Non-Thermal Plasma產生高活性的Reactive Oxygen Species，促進觸媒催化表面反應。在此過程中，NOx被轉化為氧化程度更高且具水溶性的含氮化合物，並可於後端Central Wet Abatement System中進一步去除。此乾式氧化技術無需注入氨氣等特殊化學藥劑，且觸媒催化材料可重複使用。

依據NOx濃度、前段處理條件以及電漿功率設定不同，ALCEA可處理最高達5,000 slm的氣體流量，並實現最高95%的NOx去除效率。系統功耗最高約為3.2 kW，實際耗電量將隨NOx濃度而異。

此外，ALCEA可支援多達兩組Catalyst Duct，適用於雙系統配置或同時連接兩套獨立Point-of-Use Scrubber。透過製程冷卻水設計、可重複使用觸媒催化材料及低維護需求架構，有助於無縫整合至晶圓廠既有製造環境並降低停機時間。

於全球領先半導體生態系中開發完成

ALCEA的研發由DAS與工業技術研究院（ITRI）合作開發，其中DAS台灣團隊扮演關鍵角色。本專案結合應用研究、在地工程技術與貼近半導體客戶需求的開發模式。

ALCEA的推出亦代表DAS廢氣處理產品組合的重要擴展，新增整合型Post-Abatement DeNOx方案，可同時滿足新建晶圓廠及既有廠務升級需求。

選擇於SEMICON Taiwan正式發表ALCEA，不僅展現DAS台灣團隊在客戶導向創新上的貢獻，也彰顯公司持續投入在地價值創造的承諾。參觀者可至DAS攤位進一步了解ALCEA及DAS於廢氣與廢水處理領域的完整解決方案。欲瞭解更多ALCEA產品資訊，歡迎到官網瀏覽。