巴斯威爾AI資料中心崛起 憑國際認證搶市

巴斯威爾與建華將於9月2日至4日於台北南港展覽館二館參與SEMICON Taiwan 2026。巴斯威爾

AI伺服器與高效能運算設備功率密度快速提升，資料中心對電力傳輸系統的容量、安全性、可靠度與擴充能力提出更高要求。當AI資料中心進一步朝高功率密度發展，如何在有限空間內安全、有效率地傳輸大量電力，已成為新世代資料中心基礎建設的重要課題。

巴斯威爾看準高密度電力傳輸需求，將於9月2日至4日參與SEMICON Taiwan 2026，展示匯流排相關產品與技術，布局AI資料中心、半導體、高科技廠房及先進製造等高密度用電市場。

國際標準與安全驗證  建構高密度供電技術基礎

IEC及UL等國際標準是電力傳輸設備安全與可靠度的重要依據。巴斯威爾匯流排產品規格涵蓋IEC國際標準及美國UL標準，並依產品系列具備防火、IP防護、機械衝擊及抗震等多項安全效能驗證。

對AI資料中心而言，隨著機櫃功率及整體用電密度持續提高，電力傳輸系統除了需要支援更高電流，也必須兼顧熱效能、安全性及未來擴充需求。巴斯威爾透過多項產品安全與效能驗證，提升匯流排在高負載及高密度用電環境下的應用可靠度。

匯流排因應高密度、模組化與擴充需求

AI資料中心的電力架構朝向更高密度、更高彈性及快速擴充發展。相較於傳統電纜配置，匯流排具備結構緊湊、模組化及彈性配置等特性，可依不同負載需求進行電力分配，並因應資料中心後續設備擴充，電力傳輸系統除了要滿足高電流需求，也必須兼顧安全、防火及空間效率。

巴斯威爾董事長 林錦鴻表示：「我們持續透過模鑄匯流排技術及多項安全效能驗證，提升產品在高密度用電環境下的可靠度，為AI資料中心及高科技廠房提供更具彈性的電力傳輸方案。」

巴斯威爾環氧樹脂模鑄匯流排具備以下產品優勢：

1. 空間效率： 結構緊湊，可有效降低配電路徑所需空間，有助於提升資料中心機房及高科技廠房的空間利用率。2. 低阻抗設計： 採用低電阻導體設計，有助於降低電力傳輸過程中的I²R損耗，提升能源使用效率。3. 模組化擴充： 模組化設計便於依資料中心負載需求進行配置與後續擴充，降低設備擴充對既有電力架構的影響。

巴斯威爾環氧樹脂模鑄匯流排產品涵蓋高壓17.5 kV/800–5,000 A及低壓1 kV/400–6,400 A，並依產品系列提供不同電流容量及防護配置。其中部分產品具備IP68防護等級，並通過CNS 12514 840℃、30分鐘防火測試等相關效能驗證，可因應資料中心及高科技廠房對安全、防護及高密度電力傳輸的需求。

結合配電盤技術 串聯完整電力架構  走向整合型電力方案

巴斯威爾持續投入匯流排及高密度電力傳輸技術，並與配電設備廠商建華合作，整合匯流排與高低壓配電盤。建華配電盤通過相關溫升測試及IEC/CNS認證，具備高負載運轉條件下穩定的熱效能與安全裕度，可與巴斯威爾匯流排互補搭配。

雙方結合後，可從電力進入、主要配電、電力分配一路延伸至高密度負載端，形成完整的資料中心電力架構，提升系統可靠度、空間效率及未來擴充彈性。

從匯流排產品走向整合型電力方案

巴斯威爾表示，AI資料中心帶動的不只是匯流排產品需求，而是整體電力基礎建設的升級。未來市場競爭將從單一產品規格，進一步延伸至產品安全、系統可靠度、工程整合及快速建置能力。

因此，巴斯威爾將持續強化匯流排產品及工程服務，並透過與建華的合作，從高密度電力傳輸進一步延伸至資料中心整體電力架構，共同為AI資料中心、半導體及高科技製造等產業提供更安全、可靠且具擴充性的整合型電力解決方案。

SEMICON Taiwan 2026將於9月2日至4日於台北南港展覽館二館舉行，歡迎蒞臨建華與巴斯威爾展位Q5530，深入了解從配電盤到匯流排的整合型電力配電方案，探索支撐人工智慧資料中心高密度用電需求的新世代電力基礎建設。