科技1分鐘：相位移光罩（PSM）
- 許經儀
相位移光罩（Phase-Shift Mask；PSM）為半導體微影製程使用的光罩之一，由David Levenson博士於1980年代初期在IBM研發而出的成果。核心原理是在光罩上額外加入相位資訊，藉由光波的干涉原理（Interference）提升成像解析度。
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