（獨家）沒EUV仍要衝 中國DUV直攻3奈米GAA官宣開發完成
- 謝昇輝／台北
中國半導體先進製程研發再釋出重大進展。中國中科院微電子所已針對3奈米以下先進製程，建立一條不以極紫外光（EUV）曝光機為核心的GAA元件研發路徑。中國中科院微電子研究所所長、國家級重大專項總工程師之一葉甜春16...
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