Aerotech於台北國際半導體展展出氣浮平台

ABL1500系列氣浮軸承定位平台。

積體電路讓智慧型手機等電子裝置得以運作，隨著宰制半導體製程演進的摩爾定律的預測失效後，半導體製程跨入奈米等級的世代，變成越來越大的技術瓶頸與障礙，雖然最新一代的中央處理器(CPU)還是來到了14奈米的製程，裡面包含有45億個電晶體，但是受限於矽所無法跨越的5奈米的量子力學門檻。

面對這種前所未見的小型化的製程挑戰，整體產業投注更大的資源，努力於新材料與新製程技術的開發，尤其為了滿足新一代電子產品的輕、薄設計要求，透過關鍵製程的高度整合，依靠奈米等級的位移控制的機台與機構設計，大幅提升製程設備業者的表現，對高度競爭的半導體產業而言，追求製程微縮極小化的目標是大勢所趨，也是一個永不停歇的科技追尋。

美商艾羅德克有限公司(Aerotech)，長期專心致力於運動控制(Motion Control)技術，以及多軸定位控制技術(Multi-Axis Positioning)的開發與應用，是世界知名的高精密製程所採用運動系統的重要供應商，對於提供符合現今半導體、顯示面板產業或生物科技製程設備所需要的嚴苛技術規格與產能需求，有長久的口碑。

Aerotech本身的運動控制與多軸定位平台子系統可以達到奈米等級的動態定位精度、幾何公差與強韌的熱穩定性，並且廣泛的應用於包括晶圓平台(Wafer Stage)設計、晶圓檢查與偵測、CD-SEM、TEM、步進式微影、白光干涉、先進晶圓級封裝等製程機台上。

專注於高精密度奈米等級位移與運動控制技術的開發

於本屆台北國際半導體展中，Aerotech針對數種關鍵製程所需要的運動控制技術進行一系列的展示，展出主題包含：超精密氣浮軸承定位平台，壓電奈米定位平台，以及中空型12吋晶圓用之XY平台。

氣靜壓技術為Aerotech自主開發之關鍵運動控制技術，可以確保定位平台位移時，具有最低的平面度誤差，另外可達到次微米等級的動態定位精度，以及高的速度穩定性，是氣浮軸承定位平台被廣泛應用於前段製程設備的主要原因。

壓電奈米定位平台技術，則為真對需要小行程，但是次奈米等級的微調整需求所設計，如光學動態對焦，鏡片微調等，壓電奈米平台的應用廣泛，於各式高階顯微鏡均可以看到壓電平台的身影。最後，Aerotech展出最新推出之 PlanarDLA 中空型XY平台，該平台具有業界最低的幾何公差，可應用於光學檢測，晶圓劃線，或表面量測等應用。

Aerotech於2016年台北國際半導體展之攤位號碼為2035，歡迎對於提升製程良率或產能之製程開發者，設備開發者，與有興趣的先進前來參觀。