改善製程成本 默克推出全新環保光阻去除劑 智慧應用 影音
Event
DFORUM

改善製程成本 默克推出全新環保光阻去除劑

半導體材料大廠默克(Merck)正式宣布推出用於微影製程的全新系列環保化學品「AZ Remover 880」,此光阻去除劑採用全新配方、非基於會危害環境的NMP化學品系列中的第一款產品,可滿足5G和先進晶圓級封裝製程技術的需求,並克服掀離(lift-off)製程中...

會員登入


【範例:user@company.com】

忘記密碼 | 重寄啟用信
記住帳號密碼
★ 若您是第一次使用會員資料庫,請先點選
【帳號啟用】

會員服務申請/試用

申請專線:
+886-02-87125398。
(週一至週五工作日9:00~18:00)
會員信箱:
member@digitimes.com
(一個工作日內將回覆您的來信)
關鍵字