機器視覺新視界:布局關鍵應用與剖析設計挑戰 智慧應用 影音
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機器視覺新視界:布局關鍵應用與剖析設計挑戰

  • 李佳玲台北

日前TI 舉辦2018 測試與量測技術研討會,會中特邀多位技術專家於會中分享最新EMI解決方案、剖析SAR ADC設計問題與解密DAC精密數位類比轉換器電路設計,並針對近期熱門機器視覺話題深入分享其關鍵應用與剖析設計挑戰。TI 亦針對實驗室儀器、數據採集、數位萬用表、AC/DC電源等熱門儀器設備提供一系列完整的參考設計與解決方案。 TI會後也將研討會精彩發表內容,收錄於TI培訓網免費線上觀看。

研討會談到「整合隔離電源設備 EMI 解決方案技術大躍進」,講師先針對Isolation的技術簡單說明,接續介紹TI的IOSW產品與相關參考設計。另外也說明Isolation會有怎樣的EMI問題以及其產生的原因,以及相關實驗的測試結果。最後介紹TI Isolation有何種優勢以及在進行設計時應該注意的要點。

研討會另一焦點,機器視覺新視界:布局關鍵應用與剖析設計挑戰,機器視覺Machine vision是目前最熱門的話題,而TI的DLP技術也可應用在機器視覺應用,在量測與測試領域中的光譜儀與3D掃描尤為適合。講師深入淺出的介紹 DLP技術原理以及如何將其技術與設計落實於光譜儀和3D掃描中。關於上述產品技術詳細,請至TI 培訓網查詢。


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