EUV發展關鍵為數值孔徑 未來先進製程發展該如何解套? 智慧應用 影音
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EUV發展關鍵為數值孔徑 未來先進製程發展該如何解套?

  • 黃書瑋新竹

國立清華大學半導體研究學院林本堅院長(右)與【姚姚Tech666】主持人姚嘉洋。IC之音
國立清華大學半導體研究學院林本堅院長(右)與【姚姚Tech666】主持人姚嘉洋。IC之音

 
 

在上一集,林本堅院長分享了中國仍能用DUV打造5nm製程,以及對於中美貿易戰的看法。這一集延續了林院長的論述,對於EUV的未來發展,以及面對各國在半導體產業的強力發展,台灣又該如何自處,林院長為我們提供了深入淺出的看法。

來賓:國立清華大學半導體研究學院林本堅院長
本集節目要點:
📣EUV數值孔徑增加將拉抬建廠成本,Multiple patterning應為解方。
📣無需懼怕對手追趕,台積電需將研發能量留在台灣。
📣摩爾定律新解:經濟價值。
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