半導體氣體控制有學問 電技術有看頭 智慧應用 影音
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半導體氣體控制有學問 電技術有看頭

  • 黃書瑋台北

 

半導體設備內的 Chamber(腔室)內的氣體控制其實是一門既基礎又重要的學問,晶圓良率表現好壞與否,各類氣體控制與動力是相當重要的關鍵。然而,在設備內的閥門控制上,除了流量、壓力等數字上的表現,懸浮微粒的多寡與否,也會對晶圓良率帶來相當大的影響。因此,如何又快又準地控制閥門,就成了相當重要的關鍵。

飛斯妥技術總監盧昭序(左)與【姚姚Tech666】主持人姚嘉洋。IC之音

飛斯妥技術總監盧昭序(左)與【姚姚Tech666】主持人姚嘉洋。IC之音

來賓:飛斯妥技術總監盧昭序

本集重點:
1. 台美韓半導體業者皆需壓電技術精準控制閥門
2. 不僅用在閥門,先進封裝場域也適用
3. 收購AI技術公司,為半導體設備零組件導入預測性維護

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