新型ENTEGRIS 10奈米液體過濾器

Intercept更換式與拋棄式濾心，針對關鍵性化學液DHF/BOE的潔淨製程，提供最先進的雙重過濾效能。

Entegris, Inc.將於2012年9月5日至7日在台灣台北市舉辦的SEMICON Taiwan國際半導體展上，推出10奈米標準的Intercept HPM液體過濾器，這是該公司最新一代的進階過濾解決方案，適用於最苛刻的進階半導體製程。

此一新版本的Intercept HPM過濾器，專為移除稀釋後之化學液、溶劑中的顆粒以及其他污染物而設計，適用於先進半導體製程中的濕式刻蝕與清潔過程。新型過濾器使用改良後非對稱UPE(超高分子量聚乙烯)膜，其親水性可提供最高水平的潔淨度與顆粒攔截率，同時維持較高的液體流量。

「隨著半導體產業持續運用20奈米的過程技術來開發更進階的晶片產品，過濾技術也需配合著市場對於改善製程缺陷的需求而不斷演進。」Entegris污染解決方案部副總裁及總經理Todd Edlund說：「10奈米標準的Intercept HPM過濾器擴大了我們液體過濾器的產品範圍，並豐富了我們用於腐蝕性化學品的Torrento進階高流量過濾器系列。」

欲知更多關於Intercept HPM或其他Entegris在過濾、純化、晶圓和光罩處理解決方案的更多資訊，歡迎親臨Entegris在台北南港展覽館NO.174攤位的展出。

關於ENTEGRIS

Entegris提供用於半導體和其他高科技業處理和製造過程中所使用的純化、保護和運輸關鍵材料的多種產品。Entegris通過了ISO 9001認證，並在美國、大陸、法國、德國、以色列、日本、馬來西亞、新加坡、韓國和台灣設有製造工廠、客戶服務中心或研究設施。更多資訊請參閱：www.entegris.com。