Nikon提供先進半導體製程上浸潤式曝光機台
- 陳妍蓁／台北
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Nikon NSR-S621D可應用於浸潤式multiple patterning製程。
Nikon在現有及未來先進半導體製程上對浸潤式曝光機台的需求，提供了完善的解決方案，S621D可以多點對準平台，達到優越的對準精度並帶來更快的單位時間產出，可應用在最具挑戰性的浸潤式multiple patterning製程上。
NSR-S621D擁有領先業界的浸潤式性能，多點對準平台造就更快速的單位時間產出，每小時產出大於200片。其先進的對準系統可提升更優越的良率，目前已達對準精度 ≤2 nm，1.35 NA鏡頭與控制熱像差可提供優異的成像，光學控制能力可延伸製程使用。模組化的設計使安裝與維修更便利。
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