第21屆日本FINETECH JAPAN展訂2011年4月13~15日於東京舉行

第21屆FINETECH JAPAN、第2屆高功能膜技術展FilmTech Japan及第1屆Photonix Expo＆Conference光綜合技術展，訂2011年4月13日至15日於東京舉行，將展現全球平面顯示技術最新技術發展趨勢及產品。
 
2010年4月在日本東京成功舉行的第20屆FINETECH JAPAN、第2屆LIGHTING JAPAN 次世代照明技術展及第1屆「Highly-functional Film Technology Expo高功能薄膜技術展」，據主辦單位Reed Exhibitions Japan統計，參與人數近66,739人次，展出面積42,710平方公尺，吸引來自全球20多個國家的1,100家參展廠商。因應展出規模不斷增加，主辦單位規畫2011年特別將LIGHTING JAPAN獨立出來並提前於1月舉行，4月中的展會則以FINETECH JAPAN、高功能膜技術展FilmTech Japan及Photonix Expo＆Conference光綜合技術展為主，期能兼顧展會擴大與深入專業化發展目標。
 
FINETECH JAPAN成為同領域世界最重要展會的關鍵，在於主辦單位Reed Exhibitions Japan對參展廠商均親自拜訪，並邀請領導大廠的關鍵人物及技術研發人員共同參與，及促進參與廠商「商談」等媒合機會，協助參展廠商創造最大商機。如今年展會新增設的「高功能薄膜展區」、「3D顯示區」、「奈米壓印技術展」、「散熱解決方案區」、「電源供應區」，均說明展會積極創新及滿足產業與市場需求的努力成效。