愛德萬光罩缺陷檢驗掃描式電子顯微鏡E5610

Advantest開發出全新光罩缺陷檢驗掃描式電子顯微鏡系統E5610。

全球測試領導大廠愛德萬測試(Advantest)日前宣布已開發出全新光罩缺陷檢驗掃描式電子顯微鏡系統E5610，不僅可檢測光罩基材中超細微缺陷，還能加以分類。

E5610承襲Advantest一貫的高穩定性、全自動影像擷取技術，以其備受肯定的多視角量測掃描式電子顯微鏡檢測光罩缺陷，並提供全新開發的光束傾斜功能，以傾斜角度進行掃描。E5610的缺陷檢驗功能精確性高且產能效率高，將能提升下一代光罩產品品質，縮短製造週期時程。Advantest將於2012年12月5~7日在日本千葉縣幕張國際展覽中心舉辦的SEMICON Japan國際半導體展上展出E5610。

光罩製程不容許出現任何重大缺陷，因為這不僅會降低良率，也將連帶影響製程週期時間。Advantest全新E5610是光罩製造廠不可或缺的解決方案，其快速精準的技術可將缺陷逐一分類，並依缺陷類別判斷適當修復方式，在既定製程週期時間內達成良率目標。

Advantest享有專利的逐行架構技術，即使在以低加速電壓進行光罩掃描之下，也能讓空間解析度達到2nm水準。此外，E5610還提供獨有電子控制傾斜模組，可使光束上揚15度，讓執行3D缺陷檢驗變得更容易。

E5610由於具備高精確性定位平台、電荷控制功能、降低污染技術，因此即使在掃描式電子顯微鏡高度放大的情況下，仍能展現高產能效率，穩定進行全自動缺陷造影。E5610與各主流光罩檢驗系統均相容，它可匯入缺陷位置資料，並自動對位置造影；同時支援業界標準KLARF(KLA結果檔案)格式。E5610提供了EDS(X光能譜散佈分析儀)選購模組，此模組可用於分析基本成本，這是一種對應光罩基材缺陷的先進技術。